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新光刻电路板线宽仅15纳米
http://cn.newmaker.com 5/12/2007 11:43:00 AM  佳工机电网
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惠普实验室研究人员开发的NIL技术可以制造出线宽仅15纳米的电路板实验室原型。一旦NIL“母机”制成,就可以快速廉价地印制拷贝,就像生产CD和唱片一样。然后样本被填充金属生成线路。

据报道,位于美国Carlsbad的Nanolithosolutions公司获得了惠普实验室的纳米印刷光刻技术的授权,并有意用于纳米级电子产品的研发。纳米印刷光刻技术可以在基板上精确地冲压宽度小于50个原子的线路样本。

目前该公司已经开发出基于惠普技术的一种工具,包含一种可以装进一个光罩对准器的模块组成。该模块用于在基板上生成线路和晶体管样本。这一工具简单便宜,并且将大量上市的光罩对准器转变为高分辨率NIL设备。

“基于惠普在纳米印刷光刻领域的广泛研究,我们相信我们的工具可以可靠、重复性地探索生物芯片、光子芯片和许多其他应用领域,”Nanolithosolutions首席执行官BoPi说,“我们相信这是对全球的学术和商业用户来说都非常有用的工具,因为其费用仅仅是目前技术的1/10。”

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