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Micronic开发面向45nm的掩膜绘制装置 |
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http://cn.newmaker.com
4/25/2007 11:43:00 AM
佳工机电网
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瑞典Micronic Laser Systems开发出了面向65nm和45nm掩膜制造的激光掩膜绘制装置“Sigma 7500II”。激光掩膜绘制装置由于在绘制时间上不依赖于图形尺寸,因此,与电子束(EB)绘制装置相比,可提高量产能力。比如Sigma 7500II,以1/200的缩小比例,1秒钟内可发射2000次激光。“使用激光掩膜绘制装置,掩膜绘制成本可降低40%,相当于掩膜制造成本的15%左右”(台积电在Photomask Japan 2007上的演讲:4月17日研讨会1-04)
Sigma 7500II采用了空间光调制器技术(SLM)。其基本理念与缩小投影曝光装置相同,在与掩膜相对应的部分配备有空间光调制器。利用空间光调制器,可快速形成微细图形,适用于45nm的掩膜制造。
另外,Sigma 7500II还通过配备称为“Linearity Equalizer”的OPC功能,将图形依赖性降到了200nm(在晶圆上为50nm)。在微细图案的形成方面,采用波长为248nm的受激准分子激光(KrF),因此性能低于电子束绘制装置,不过仍可适用于60~70%的45nm产品用掩膜。
现在,LSI及平板显示器(FPD)用掩膜绘制装置采用的是电子束或激光。目前,电子束掩膜绘制装置厂商有NuFlare Technology和日本电子2家公司,而激光掩膜绘制装置的厂商仅Micronic一家。后者的产品有80%面向的是FPD,并且50%的客户是日本厂商。此次Micronic发布支持45nm掩膜的激光掩膜绘制装置,估计是为了今后加大在LSI用掩膜绘制装置领域的投入。
另外,日立高新技术(Hitachi High-Technologies)已停止开发新的电子束绘制装置,美国应用材料也停止了对激光掩膜绘制装置的新开发。
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