佳工机电网 在线工博会 我的佳工网 手机版 English
关键字  
  选择展区 >>
您的位置: 首页 > 电子/通讯/办公文具展区 > 电子工业设备展厅 > 新闻 > 正文 产品 会展 人才 帮助 | 注册 登录  
电子工业设备
 按行业筛选
 按产品筛选
本产品全部新闻


e展厅 产品库 视频 新闻 技术文章 企业库 下载/样本 求购/论坛
  市场动态 | 技术动态 | 企业新闻 | 图片新闻 | 新闻评论 佳工网行业新闻--给您更宽的视角 发表企业新闻 投稿 
Micronic开发面向45nm的掩膜绘制装置
http://cn.newmaker.com 4/25/2007 11:43:00 AM  佳工机电网
欢迎访问e展厅
展厅
3
电子工业设备展厅
电路板生产设备, 分板机, 贴片机, 波峰焊, 回流焊, ...
瑞典Micronic Laser Systems开发出了面向65nm和45nm掩膜制造的激光掩膜绘制装置“Sigma 7500II”。激光掩膜绘制装置由于在绘制时间上不依赖于图形尺寸,因此,与电子束(EB)绘制装置相比,可提高量产能力。比如Sigma 7500II,以1/200的缩小比例,1秒钟内可发射2000次激光。“使用激光掩膜绘制装置,掩膜绘制成本可降低40%,相当于掩膜制造成本的15%左右”(台积电在Photomask Japan 2007上的演讲:4月17日研讨会1-04)

Sigma 7500II采用了空间光调制器技术(SLM)。其基本理念与缩小投影曝光装置相同,在与掩膜相对应的部分配备有空间光调制器。利用空间光调制器,可快速形成微细图形,适用于45nm的掩膜制造。

另外,Sigma 7500II还通过配备称为“Linearity Equalizer”的OPC功能,将图形依赖性降到了200nm(在晶圆上为50nm)。在微细图案的形成方面,采用波长为248nm的受激准分子激光(KrF),因此性能低于电子束绘制装置,不过仍可适用于60~70%的45nm产品用掩膜。

现在,LSI及平板显示器(FPD)用掩膜绘制装置采用的是电子束或激光。目前,电子束掩膜绘制装置厂商有NuFlare Technology和日本电子2家公司,而激光掩膜绘制装置的厂商仅Micronic一家。后者的产品有80%面向的是FPD,并且50%的客户是日本厂商。此次Micronic发布支持45nm掩膜的激光掩膜绘制装置,估计是为了今后加大在LSI用掩膜绘制装置领域的投入。

另外,日立高新技术(Hitachi High-Technologies)已停止开发新的电子束绘制装置,美国应用材料也停止了对激光掩膜绘制装置的新开发。

发表评论】【新闻评论】【论坛】【收藏此页
更多有关电子工业设备的新闻:
·[图]流动中激活:高科技胶粘剂的新工艺技术 4/8/2022
·[图]NEC工程上市用于磁场探针法的小型扫描器 4/20/2007
·[图]SolderStar将在Nepcon China展示温曲线测量工具 4/10/2007
·[图]三菱重工试制有机EL显示器连续式真空蒸镀装置 4/10/2007
·我国首创废印制电路板回收技术与设备 4/5/2007
·[图]微电子设备磨擦力的新处理方法 3/21/2007
·南通富士通开发出无铅电镀等技术及产品 3/8/2007
·尼康推出NA1.3的液浸曝光设备 3/7/2007
·华工激光绿激光显微精密修调机项目通过鉴定 3/6/2007
·惠田发展高性能低成本电子标签制造设备 3/5/2007
查看与本新闻相关目录:
·电子/通讯/办公文具展区 > 电子工业设备展厅 > 电子工业设备技术动态

对 电子工业设备 有何见解?请到
电子工业设备论坛 畅所欲言吧!





网站简介 | 企业会员服务 | 广告服务 | 服务条款 | English | Showsbee | 会员登录  
© 1999-2024 newmaker.com. 佳工机电网·嘉工科技