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尼康推出NA1.3的液浸曝光设备

http://cn.newmaker.com 3/7/2007 1:56:00 PM 佳工机电网

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展厅 3	电子工业设备展厅电路板生产设备, 分板机, 贴片机, 波峰焊, 回流焊, ...

尼康已经向一家LSI厂商提供了开口数（NA）为1.3的液浸ArF曝光设备“NSR-S610C”。NA1.3以上的液浸曝光设备用于实际制造，在业界尚属首次。

2007年度计划销售20台左右

NSR-S610C支持半间距为45nm的存储器和32nm工艺逻辑芯片LSI的量产。尼康没有公布购买该设备的厂商，不过，估计是大型NAND型闪存厂商。另外，尼康已于2006年12月宣布台湾力晶半导体（PSC）决定采用该设备，不过此次并非供应力晶半导体。

按尼康的计划，此次已经供货首台机器的NSR-S610C在2007年度将实现20台左右的销量。目前，NA为1.3以上的液浸曝光设备中，还有荷兰ASML开发的NA1.35的液浸曝光设备“XT：1900i”。ASML计划于07年中期开始供货XT：1900i。

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