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富士通拟于年内量产45纳米工艺系统LSI |
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| http://cn.newmaker.com
3/25/2008 11:33:00 AM
佳工机电网
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富士通3月19日宣布，决定于年内开始量产电路线宽缩小到45纳（纳为10亿分之1）米的系统LSI（大规模集成电路）产品。计划首先用于公司内部开发的系统，图像处理等外销用半导体产品也将依次应用。至此，所有自行生产最尖端产品的日本国内系统LSI厂商，均已公布了进行45纳米工艺量产投资的方针。
富士通将在其现有的从事最尖端的65纳米产品生产的三重工厂（三重县桑名市）量产45纳米产品。随着电路线宽变窄，除由1枚晶圆制成的半导体个数增加、生产成本将下降外，耗电量也可降低。另外，还具有芯片内传输距离缩短、嵌入设备的响应速度加快的优点。（3月20日 《日本经济新闻》晨报）
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