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解读信产部“集成电路产业‘十一五’专项规划” |
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http://cn.newmaker.com
1/18/2008 7:50:00 PM
日经BP社
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日前,中国国家信息产业部正式发布了“集成电路产业‘十一五’专项规划”、“软件产业‘十一五’专项规划”、“电子基础材料和关键元器件‘十一五’专项规划”、“电子专用设备和仪器‘十一五’专项规划”及“信息技术改造提升传统产业‘十一五’专项规划”五个信息产业领域专项规划。
“集成电路产业‘十一五’专项规划”下文简称“规划”共分五大部分。首先总结了中国集成电路产业在“十五”期间取得的成就,然后分析了‘十一五’面临的形势,接着介绍了‘十一五’发展思路与目标,最后介绍了重点任务及措施。“规划”对中国集成电路产业发展将产生重要影响。这里重点解读‘十一五’发展思路和“规划”发展目标。
“规划”‘十一五’发展思路
“规划”分别从设计、制造、封装测试三个方面指出了各行业的发展思路。其中对设计业的发展思路是:鼓励设计业与整机之间的合作,加快涉及国家安全和量大面广集成电路产品的设计开发,培育一批具有较强自主创新能力的骨干企业,开发具有自主知识产权的集成电路产品。
对制造业的发展思路是:鼓励现有生产线的技术升级和改造,形成90纳米工艺技术的加工能力;积极发展集成器件制造(IDM)模式,鼓励新一代芯片生产线建设;引导产业向有基础、有条件的地区集聚,形成规模效应。
对封装测试业的发展思路是:加快封装测试业的技术升级。积极调整产品、产业结构,重点发展SIP、Flipchip、BGA、CSP、MCM等先进封装技术,提高测试水平和能力。材料、设备等支撑业:以部分关键设备、材料为突破口,重视基础技术研究,加快产业化进程,提高支撑能力。
与以往相关规划相比,此“规划”中最突出的特点就是从打造完善产业链中的角度,结合产业链各环节的特点,提出了中国集成电路产业发展思路。
“规划”发展目标
“规划”发展目标指出,到2010年,中国集成电路产业产量达到800亿块,实现销售收入约3000亿元,年均增长率达到30%,约占世界集成电路市场份额的10%,满足国内30%的市场需求。
集成电路产业结构调整目标是:到2010年,集成电路产业结构进一步得到优化,芯片设计业在行业中的比重提高到23%,芯片制造业、封装与测试业比重分别为29%和48%,形成基本合理的产业结构。
集成电路产业技术创新目标是:到2010年,芯片设计能力大幅提升,开发一批具有自主知识产权的核心芯片,主流设计水平达到0.13μm~90nm;国内重点整机应用自主开发集成电路产品的比例达到30%左右。芯片制造业的大生产技术达到12英寸、90~65nm;封装测试业进入国际主流领域,实现系统封装(SiP)、芯片倒装焊(Flipchip)、球栅阵列封装(BGA)、、芯片级封装(CSP)、多芯片组件(MCM)等新型封装形式的规模生产能力。12英寸部分关键技术装备、材料取得突破并进入生产线应用。
结合上面发展思路的要求,在综合分析各方面因素的基础上,“规划”提出了由主要经济指标、结构调整目标、技术创新目标等三个方面构成的集成电路产业发展的目标体系。
“规划”重点任务
“规划”从五个方面对集成电路产业重点任务做了介绍:首先是加快集成电路共性技术研发和公共服务平台建设,重点开发SOC等产品设计、纳米级工艺制造、先进封装与测试等产业链各环节的共性关键技术,为实现产业可持续发展提供技术来源和技术支持。
其次是重点支持量大面广产品的开发和产业化,面向高清晰度数字电视、移动通信、计算机及网络、信息安全产品、智能卡及电子标签产品、汽车电子等市场需求大的整机市场,引导芯片设计与整机结合,加大重点领域专用集成电路(ASIC)的开发力度,重点开发数字音视频相关信源、信道芯片、图像处理芯片,移动通信终端基带芯片、高端通信处理芯片、信息安全芯片等量大面广的产品。
第三是要增强芯片制造和封装测试能力,提高产业控制力,支持“909”工程升级改造,鼓励集成器件制造(IDM)模式的集成电路企业发展,促进设计业、制造业的协调互动发展;重点发展12英寸集成电路生产线,建设5条以上12英寸、90纳米的芯片生产线;建设10条8英寸0.13~0.11微米芯片生产线,提高6英寸~8英寸生产线的资源利用水平;加强标准工艺模块开发和IP核的开发,不断满足国内芯片加工需求。积极采用新封装测试技术,重点发展BGA、PGA、CSP、MCM、SIP等先进封装技术,扩大产业规模,提高测试技术和水平。
第四是要突破部分专用设备仪器和材料,掌握6~8英寸集成电路设备的制备工艺技术,重点发展8~12英寸集成电路生产设备,包括光刻机、刻蚀机、离子注入机、平坦化设备、掺杂设备、快速热处理设备,划片机、键合机、硅片减薄机、集成电路自动封装系统等设备,具备为6~8英寸生产设备进行维护和翻新能力;力争实现100nm分辨率193nmArF 准分子激光步进扫描投影光刻机、高密度等离子体多晶硅刻蚀机、大角度倾斜大剂量离子注入机等重大关键装备产业化;重点开发12英寸硅抛光片和8英寸、12英寸硅外延片,锗硅外延片,SOI材料,宽禁带化合物半导体材料、光刻胶、化学试剂,特种气体、引线框架等材料,为产业发展提供有力支撑。
第五是要推进重点产业园区建设,重点建设北京、天津、上海、苏州、宁波等国家集成电路产业园,加强产业链建设,带动相关企业的发展。
“规划”政策措施
“规划”最后列举了保证集成电路产业发展的五项政策措施,分别是加快制定法规与政策,进一步营造良好的产业环境,积极推进“软件与集成电路产业发展促进条例”的编制,加快推出“关于进一步鼓励软件产业和集成电路产业的若干政策”,加大知识产权保护力度;进一步加大投入力度;继续扩大对外开放,提高利用外资质量,完善外商投资项目核准办法,适时调整“外商投资产业指导目录”,优化产业布局,减少低水平盲目重复建设;加强人才培养,积极引进海外人才,创造有利于集成电路人才发展的宽松环境。(特约记者:贾子昂)
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