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美研究人员找到晶体管能量流失问题解决办法 |
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| http://cn.newmaker.com
1/28/2007 7:17:00 PM
佳工机电网
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新华网北京１月２８日电（记者李雯）美国英特尔公司和ＩＢＭ公司近日分别宣布，其研究人员找到了计算机芯片中晶体管能量流失问题的解决办法。专家称，这是晶体管技术领域的重要进展，将能保证未来芯片在变得越来越小的同时充分利用能量。
英特尔公司创始人之一戈登·摩尔曾预言说，芯片上集成的晶体管数量将每两年翻一番，这就是著名的“摩尔定律”。几十年来，芯片制造业一直遵循这个规律，计算机处理器速度变得越来越快、功能也更为强大。
但近年来科学家也发现，作为晶体管内部绝缘材料而使用了４０多年的二氧化硅正被“削”得越来越薄，导致渗出的电量越来越多并产生不必要的热量。英特尔公司和ＩＢＭ公司研究人员的突破在于，他们找到了用其他材料来代替二氧化硅的办法，有望在提高晶体管性能的同时减少能量流失。
外电援引来自英特尔公司的消息说，该公司开发出的新材料可使晶体管性能提高２０％左右。英特尔公司计划今年下半年开始利用新材料大规模生产芯片，而且芯片部分元件将采用４５纳米（１纳米为１０亿分之一米）新工艺生产。ＩＢＭ公司暂时没有公布其新材料的技术细节。
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