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飞利浦利用近场技术实现75GB光盘容量
http://cn.newmaker.com 10/25/2006 10:14:00 AM  佳工机电网
飞利浦利用近场技术实现75GB光盘容量荷兰飞利浦研究所(Philips Research)利用近场技术在有覆盖层的光盘上进行记录和读取,换算成12cm光盘记录容量相当于75GB。

近场记录大致分为2种方式。一是向没有覆盖层的光盘表面记录膜进行数据写入的方式,二是向位于厚度3~4μm覆盖层下方的记录层进行写入的方式。与前者相比,尽管后者的每层容量会小一些,但对于灰尘、划伤和透镜碰撞具有很高的承受能力,并且具有通过多层化提高容量的优点。

飞利浦研究所使用开口数(NA)1.45的物镜(SIL:固态液浸透镜),在覆盖层方式中证实了最高相当于75GB容量的记录与读取。记录膜采用了追记型无机材料Cu/Si。覆盖层厚度为3μm,折射率为1.58。轨道间隔为210nm,信道位长为38nm,比特误码率为6×10-5。

今后,将把NA提高到1.6,并通过对读取信号处理方式进行深入研究,实现每层125GB。为了实现多层化,2007年将试制双层光盘进行记录和读取试验。最终希望在每层125GB的4层光盘中实现500GB的记录容量。

不使用覆盖层的近场技术,索尼已证实了能够驶向相当于12cm光盘记录112GB的记录容量。

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