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炉窑/热处理设备 |
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等离子体热处理工艺的新进展 |
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| http://cn.newmaker.com
7/1/2006 11:53:00 AM
赵炳桢 编译
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德国的ALD真空技术公司和奥地利的Rubig公司是两家热处理设备系统制造商，他们正计划进一步开发一种快速而高效的等离子体热处理技术——AtomPlas应用系统。据美国汽车零件制造商Dana公司介绍，AtomPlas技术是通过微波能量的增强，在常压下产生和保持等离子体(即不使用真空设备)，可产生的温度高达1200℃以上。介绍称，至今还不知道这一技术可达到的温度上限。
ALD真空技术公司将把Dana公司的AtomPlas技术用于渗碳系统，而奥地利的Rubig公司则计划把该技术用于氮化处理。Dana公司已完成了对这些应用的技术验证及技术和商业分析，同意将ALD公司和Rubig公司开发的系统用于该公司的热处理工艺。
Dana公司技术开发部门负责人Chuck Heine指出：“Dana的AtomPlas技术有可能带来热处理的革命，它能显著地降低成本，既有很高的效率，又可改进材料的性能。”
Dana公司最近获得了用AtomPlas技术连接金属零件的专利。等离子体吸收并聚集微波的能量，防止了电弧的产生，其热量的均匀分布，避免了对金属基体的热冲击。吸收了微波能量的等离子体应用其95%的微波能量，实现了钎焊、熔焊等操作，从而快速可靠地连接金属零件。
已有20项关于AtomPlas的应用在美国申请专利，其中包括车辆的排气处理、氢气制备及用于电子和医药领域生产碳的纳米结构。Dana正从事更多的商业化应用，例如淬火、烧结、钎焊和回火等，潜在的表面处理还包括硬材料涂层和表面清洁。
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