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IBM和JSR实现29.9mm线宽与线间隔

http://cn.newmaker.com 2/24/2006 9:14:00 AM 日经BP社

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展厅 6	电子测量仪器展厅万用表, 示波器, 电子测试仪器, 信号发生器, 信号分析仪, ...

IBM宣布，通过与美国JSR Micro公司合作，利用ArF液浸曝光完成了线宽与线间隔为29.9mm的图案成像。这是将JSR公司的高折射率液体与采用IBM高折射率光学元件的双光束干涉曝光设备“NEMO”相结合后实现的。

此次的结果预示着有望将采用高折射率材料的液浸曝光技术扩展到32nm工艺以后。JSR曾表示可使用折射率为1.64的液体，实现32nm的线宽与线间隔。此次就结合使用的这种液体和IBM开发的折射率为1.67的棱镜。据称，光刻胶的折射率约为1.7。为了进一步提高成像性能，今后将瞄准1.9的折射率进行技术开发。该技术在日前于美国召开的“Microlithography 2006”国际会议进行了介绍（发布资料）。

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