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NI PXI矢量网络分析仪NI PXIe-5632帮助半导体和移动设备制造商降低测试成本 |
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http://cn.newmaker.com
12/4/2012 12:22:00 PM
佳工机电网
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新闻要点
• NI矢量网络分析仪(VNA)凭借其快速自动化测量、功能强大的仪器结构和经简化的测试系统开发过程,可降低测试成本。
• 新的NI PXI Express模块集成了高级矢量网络分析仪的测量功能,形成基于PXI的测试系统,其中包括了高精度直流、高速模拟和数字测量等应用
新闻发布 - 2012年12月- 美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 NI)近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA,它经进一步优化,可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求,而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构,频率范围为300 kHz至8.5 GHz,拥有独立调整的源代码和源接入循环,可适用于众多不同的测量应用
“NI在射频和微波仪器上持续大力投入,将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示, “NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富,可显着降低网络测量成本,尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”
产品特征
• 双端口,3槽PXI Express矢量网络分析仪,频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
• 功率范围较宽,为-30dBm到+15 dBm,调节步长为0.01dB,用于测量有源设备的压缩和S-参数。
• 带有源接入循环的双源架构,可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
• 频偏功能使用独立调整的源代码,实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
• 通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口,可简化编程并加快测试开发速度,同时保证射频测量质量。
欲知更多,请访问http://www.ni.com/vna/zhs/。
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